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氮化硅干法刻蚀工艺设备模型的试验与测量--《微电子学》年期摘要:通过对氮化硅薄膜干法刻蚀工艺实验々结果的测量,得到硅片表面非均匀性分布的具体测量数据,并对这种现象的成因进行了定性的理论分析,为下一步建立刻蚀工∩艺设备模。

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